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X-ray應用薄膜窗口(X-Ray Windows)

有兩種薄膜,低應力lpcvd氮化硅膜具很強機械強度,適合高溫和差壓環(huán)境;G-FLAT™氧化硅膜平坦無褶皺,非常適合x射線顯微鏡和需要無氮氣背景的分析。這些薄膜窗口是X射線顯微鏡和x射線光譜學技術的理想襯底,經(jīng)過等離子清洗,無有機污染。平坦、均勻沉積的薄膜具有低場到場可變性和高x射線透射性。

G-FLAT™氧化硅膜窗口(G-FLAT™ SiO X-Ray Window),適合生物成像研究,具有玻璃狀親水表面。外框硅材質,外框大小5*5mm,框厚310µm,膜厚度300nm。無褶皺,與超高真空(UHV)應用兼容。

        LPCVD氮化硅膜窗口,外框大小5*5mm,框厚320µm200 MP 低應力無孔氮化硅。

產(chǎn)品信息:

貨號

產(chǎn)品描述

窗口(Sq.)

膜厚

規(guī)格

76042-10

G-FLAT™ SiO X-Ray Window

500µm

100nm

10個/盒

76042-11

G-FLAT™ SiO X-Ray Window

500µm

300nm

10個/盒

76042-12

Silicon Nitride X-Ray Window

500µm

50nm

10個/盒

76042-13

Silicon Nitride X-Ray Window

1000µm

50nm

10個/盒

76042-14

Silicon Nitride X-Ray Window

500µm

100nm

10個/盒

76042-15

Silicon Nitride X-Ray Window

1000µm

100nm

10個/盒

76042-16

Silicon Nitride X-Ray Window

1500µm

200nm

10個/盒

76042-17

Silicon Nitride X-Ray Window

2500µm

200nm

10個/盒

 

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